发明名称 一种晶圆吸盘保护装置
摘要 本实用新型提供一种晶圆吸盘保护装置,该装置至少包括:具有上、下表面的第一保护结构;穿过所述第一保护结构上、下表面的通槽;由侧壁围成且具有上表面的吸盘;所述吸盘沿其侧壁嵌入于所述第一保护结构的通槽;所述吸盘上表面高于所述第一保护结构的上表面;完全覆盖并背面吸附于所述吸盘上表面的晶圆;所述第一保护结构的上表面嵌有围绕所述吸盘的第二保护结构;所述第二保护结构接触于所述晶圆边缘或背面。本实用新型的晶圆吸盘保护装置在晶圆受到离子束轰击的同时,使得所述晶圆吸盘在所述第二保护结构的保护下避免受离子束轰击,延长了所述第一保护结构的使用寿命,降低了生产成本。
申请公布号 CN203826361U 申请公布日期 2014.09.10
申请号 CN201420176357.0 申请日期 2014.04.11
申请人 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 发明人 李大勇
分类号 H01L21/687(2006.01)I 主分类号 H01L21/687(2006.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 李仪萍
主权项 一种晶圆吸盘保护装置,其特征在于,所述晶圆吸盘保护装置至少包括:具有上、下表面的第一保护结构;穿过所述第一保护结构上、下表面的通槽;由侧壁围成且具有上表面的吸盘;所述吸盘沿其侧壁嵌入于所述第一保护结构的通槽;所述吸盘上表面高于所述第一保护结构的上表面;完全覆盖并背面吸附于所述吸盘上表面的晶圆;所述第一保护结构的上表面嵌有围绕所述吸盘的第二保护结构;所述第二保护结构接触于所述晶圆边缘或背面。
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