发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 本发明提供一种半导体装置,其能够抑制外来电荷的影响并且能够效率地进行制造。该半导体装置具有:有源区,其上形成有半导体元件;有源区与半导体基板的端面之间的外围区,在外围区的至少一部分的上表面上形成有绝缘层,在绝缘层内,沿着从有源区朝向半导体基板的端面的方向以隔开间隔的方式而配置有多个浮置电极,所述浮置电极在沿着从有源区朝向半导体基板的端面的方向以及半导体基板的厚度方向的截面中,沿着半导体基板的厚度方向而延伸并被相互分离。
申请公布号 CN104040720A 申请公布日期 2014.09.10
申请号 CN201280066749.5 申请日期 2012.11.27
申请人 丰田自动车株式会社 发明人 平林康弘;榊原明德
分类号 H01L29/06(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I 主分类号 H01L29/06(2006.01)I
代理机构 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 代理人 黄威;苏萌萌
主权项 一种半导体装置(10),其具有半导体基板(12),其中,半导体基板(12)具有:有源区(20),其上形成有半导体元件;有源区(20)与半导体基板(12)的端面(12a)之间的外围区(50),在外围区(50)的至少一部分的上表面上形成有绝缘层(58),在绝缘层(58)内,沿着从有源区(20)朝向半导体基板(12)的端面(12a)的方向以隔开间隔的方式而配置有多个浮置电极(40),所述浮置电极(40)的半导体基板(12)的厚度方向上的宽度大于从有源区(20)朝向半导体基板(12)的端面(12a)的方向上的宽度。
地址 日本爱知县