一种连续多真空室卷绕镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种连续多真空室卷绕镀膜设备，其特征在于：所述设备包括放卷机构、放卷室、隔离阀门、真空溅射室A、真空溅射机构A、隔离腔、真空溅射室B、真空溅射机构B、隔离腔、真空溅射室C、真空溅射机构C、导向轴、收卷室、收卷机构、隔离机构、沉积室A、沉积室B以及沉积室C。本实用新型提供一种连续多真空室卷绕镀膜设备，全部采用分子泵系统，各沉积室之间设有隔离腔，可以很好的避免气体间相互干扰，可以一次性沉积多种膜层，也可以实现多种工艺膜系一次完成。

主权项

一种连续多真空室卷绕镀膜设备，其特征在于：所述设备包括放卷机构（1）、放卷室（2）、隔离阀门（3）、真空溅射室A（4）、真空溅射机构A（5）、隔离腔（6）、真空溅射室B（7）、真空溅射机构B（8）、隔离腔（9）、真空溅射室C（10）、真空溅射机构C（11）、导向轴（12）、收卷室（13）、收卷机构（14）、隔离机构（15）、沉积室A（16）、沉积室B（17）以及沉积室C（18），所述放卷室（2）中设置有放卷机构（1），所述沉积室A（16）中设置有真空溅射室A（4），所述真空溅射室A（4）中设置有真空溅射机构A（5），所述所述沉积室B（17）中设置有真空溅射室B（7），所述真空溅射室B（7）中设置有真空溅射机构B（8），所述所述沉积室C（18）中设置有真空溅射室C（10）,所述真空溅射室C（10）中设置有真空溅射机构C（11），所述收卷室（13）中设置有收卷机构（14），所述隔离机构（15）上分别设置有隔离阀门（3）、隔离腔（6）、隔离腔（9）和导向轴（12）。