发明名称 一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法
摘要 本发明涉及一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法,包括以下步骤:将由化学共沉淀法得到氧化铟锡粉末装入管状柔性模具中,以200~400MPa压力进行冷等静压成型,冷等静压结束后,卸压至常压,制得氧化铟锡管状素坯,再将氧化铟锡管状素坯在脱脂炉中进行脱脂,然后将脱脂后的坯体放入压力烧结炉中,按一定的烧结条件在氧气压力下进行压力烧结,得到相对密度在99%以上的氧化铟锡旋转靶材。本发明制备的氧化铟锡管状旋转靶材,其优点在溅射过程中,靶材可绕固定的条状磁铁组件旋转,因而360°靶面可被均匀刻蚀,同时溅射原子可向各个方向飞行,均匀性好,溅射面积大,更换操作方便,生产效率高,靶材利用率高(>80%)。
申请公布号 CN103274699B 申请公布日期 2014.09.03
申请号 CN201310135894.0 申请日期 2013.04.18
申请人 广西晶联光电材料有限责任公司;苏州晶联光电材料有限公司 发明人 黄誓成;何建进;陆映东
分类号 C04B35/622(2006.01)I;C04B35/457(2006.01)I 主分类号 C04B35/622(2006.01)I
代理机构 柳州市荣久专利商标事务所(普通合伙) 45113 代理人 韦微
主权项 一种氧化铟锡旋转靶材的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)将由化学共沉淀法得到的氧化铟锡粉末装入管状柔性模具中,以200~400MPa压力进行冷等静压成型,冷等静压结束后,卸压至常压,脱模后获得氧化铟锡管状素坯;所述的冷等静压结束后,卸压至常压的过程中采用N级卸压保压,第一级卸压保压的压力为冷等静压压力的0.5~0.85倍,后一级卸压保压的压力为前一级卸压保压压力的0.5~0.85倍,各级的保压时间均为1~10min,第N级卸压保压结束后直接卸压至常压,3≤N≤8;(2)再将氧化铟锡管状素坯放入脱脂炉中进行脱脂;具体步骤为:将氧化铟锡管状素坯放入脱脂炉,以0.1~0.5℃/ min的升温速率,升至500℃,保温1~3小时后,以0.3~1℃/min的降温速率降至室温;(3)然后将脱脂后的坯体放入压力烧结炉中,按一定的烧结条件在氧气压力下进行压力烧结,得到相对密度在99%以上的管状氧化铟锡靶材,即氧化铟锡旋转靶材;所述的烧结条件是指以0.5~2℃/ min的升温速率升温,至1450~1600℃保温烧结10~15小时,然后按降温速率0.75~1℃/ min降温至1000℃,之后自然降温;所述的压力烧结是指在1~5公斤的氧气压力下进行烧结。
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