发明名称 真空高速发射装置
摘要 一种真空高速发射装置,它包括冲头(1),密封法兰(2),滑块(3),支架(4),发射管(5),顶柱法兰(6),高压气缸(7),发射活塞(8),密封塞(9),支撑法兰(10),真空装置(11)。滑块(3)位于发射管(5)内。冲头(1)与安装在发射管(5)左侧的密封法兰(2)形成密封;高压气缸(7)安装在发射管(5)的右侧,并与发射活塞(8)、密封塞(9)在发射管(5)的右侧形成密封。发射管(5)内腔在两侧被密封,形成真空腔。滑块(3)发射时,打开发射活塞(8)和密封塞(9)的密封,用外界大气压推动滑块(3)加速,最后滑块(3)撞击冲头(1),对冲头(1)传递速度,加速冲头(1)完成冲击成形。本发明装置可以解决现有高压发射装置滑块不能匀加速的问题,提高冲击效果。此外利用气压控制发射,使得控制更加简单。
申请公布号 CN102818734B 申请公布日期 2014.09.03
申请号 CN201210273917.X 申请日期 2012.08.03
申请人 江苏大学 发明人 刘会霞;郭朝;沈宗宝;张虎;李品;胡杨;杜道忠;高阳阳;刘辉;王霄
分类号 G01N3/307(2006.01)I;G01N3/02(2006.01)I 主分类号 G01N3/307(2006.01)I
代理机构 南京天华专利代理有限责任公司 32218 代理人 瞿网兰
主权项 一种真空高速发射装置,它包括发射管(5)、滑块(3)和真空发生装置(11),所述的滑块(3)紧贴发射管(5)的内壁并且可在发射管(5)内左右滑动且能与顶柱法兰(6)的端面相抵,其特征是所述的发射管(5)的发射端密封连接有密封法兰(2),密封法兰(2)的内腔中加工有与发射管(5)相连通的轴向台阶状通孔,冲头(1)安装在密封法兰(2)的轴向台阶状通孔中,冲头(1)的一端与密封法兰(2)中的台阶面相抵而实现单向定位,同时使密封法兰(2)实现端面密封,冲头(1)的另一端呈自动状态并与空气相接触,在密封法兰(2)上还加工有径向通孔,该径向通孔通过连接管道与真空发生装置(11)相连通以实现对发射管(5)的一端抽真空;发射管(5)的击发端安装有顶柱法兰(6),顶柱法兰(6)的中心设有凸起的顶柱(601),顶柱(601)的周边设有轴向通孔(602),在顶柱法兰(6)上还加工有与轴向通孔(602)连通的、用于连接真空发生装置(11)的径向抽真空孔(603),在顶柱法兰(6)的外侧安装有高压气缸(7),高压气缸(7)的内腔呈台阶状结构,发射活塞(8)的内端安装在高压气缸(7)的小内径腔中,发射活塞(8)的外端设有一个只能在高压气缸(7)的大内径腔中移动的端面凸台(801),高压气缸(7)的大直径内腔面、台阶面、发射活塞(8)的外表面及端面凸台(801)之间形成一个阻尼腔(B),阻尼腔(B)与控制阀(A)相连通;在发射活塞(8)的内端面上设有供顶柱法兰(6)上的顶柱(601)通过的端面通孔(802),密封塞(9)的左端可堵住发射活塞(8),密封塞(9)的另一端插装在支撑法兰(10)的导向孔柱(101)中,支撑法兰(10)固定在高压气缸(7)的外端面上,在支撑法兰(10)上加工有连通发射活塞(8)内腔与大气的轴向通孔(102);所述的高压气缸(7)加工有连通顶柱法兰(6)上的径向抽真空孔(603)的通孔,该通孔与真空发生装置(11)的抽真空管相连通。
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