多孔奈米结构之制作方法

摘要

一种多孔奈米结构之制作方法，系藉由在一半导体基材上进行一溅镀制程，以形成一金属奈米网格阵列。之后，再对上述之半导体基材与金属奈米网格阵列进行一乾蚀刻制程，以在半导体基材上形成一多孔奈米结构。利用此种制作方法，仅需两道制程步骤，即可完成高性能之抗反射多孔矽奈米仿生结构的制作，相较于知，可有效兼具减少繁琐制程步骤以及具备高抗反射性之优点。

主权项

一种多孔奈米结构之制作方法，包括以下步骤：在一半导体基材上进行一溅镀制程，以形成一金属奈米网格阵列；以及对该金属奈米网格阵列与该半导体基材进行一乾蚀刻制程，使该半导体基材上形成一抗反射之多孔奈米结构。