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发明名称
具有发光阵列及集光仪器之光源
摘要
本发明揭示一种光系统,其包括复数个配置在一阵列中之发光元件,例如发光二极体。一或多个发光元件系定位在阵列的一中心区内。在中心区内之发光元件具有比该阵列中之该等发光元件的该剩余者更佳之效能,例如亮度及/或效率。一在中心区外的第二区(即更远离阵列的中心)包括一第二群发光元件,其具有比阵列中任何额外发光元件更佳之效能。该阵列可包括额外区,其远离该阵列之中心且包括具有较低效能的发光元件。一具有一光学轴之集光仪器系光学耦合至该阵列,使得该光学轴系定位在将近该阵列之中心。
申请公布号
TWI451590
申请公布日期
2014.09.01
申请号
TW095136077
申请日期
2006.09.28
申请人
飞利浦露明光学公司 美国
发明人
杰拉德 哈伯斯;塞吉 乔尔 亚曼德 拜惠森
分类号
H01L33/00;G02B19/00
主分类号
H01L33/00
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
一种发光系统,其包含:复数个发光元件,其系配置在一阵列中,其中该等发光元件在一参数内有所变化,其中该参数对于该等发光元件系固有且系一用于该发光系统之效能标准,该阵列包含:一中心区,其系定位一第一发光元件,该第一发光元件在该参数内具有比该阵列中该等发光元件之剩余者更佳的固有效能;及一第二区,其系在该中心区之外,该第二区含有一第二群发光元件,其在该参数内具有比该第一发光元件更低之效能。
地址
美国
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