发明名称 Ge-Sb-Te膜的成膜方法、Ge-Te膜的成膜方法、Sb-Te膜的成膜方法及记忆媒体
摘要 本发明提供一种Ge-Sb-Te膜的成膜方法,其包含Sb原料导入工序、第1吹净工序、Te原料导入工序、第2吹净工序、Ge原料导入工序及第3吹净工序,其中,在该原料导入工序及吹净工序的至少1工序中,系导入包含有氨气、甲基胺、二甲基胺、联胺、单甲基联胺、二甲基联胺及吡啶的1者或2者以上之添加气体。
申请公布号 TWI450999 申请公布日期 2014.09.01
申请号 TW101129985 申请日期 2012.08.17
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 河野有美子;有马进
分类号 C23C16/18 主分类号 C23C16/18
代理机构 代理人 林秋琴 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;何爱文 台北市大安区敦化南路1段245号8楼
主权项 一种Ge-Sb-Te膜的成膜方法,其包含以下工序:Sb原料导入工序,系导入为(R2O)3Sb(式中,R2为碳数1~10之直链状、分枝链状、环状的烷基或芳香族基)之Sb原料;第1吹净工序,系在该Sb原料导入工序之后以非活性气体来吹净;Te原料导入工序,系在该第1吹净工序之后,导入为(R3R4R5Si)2Te或(R3R4R5Si)TeR6(式中,R3、R4、R5及R6系可分别独立地具有氢、碳数1~10之直链状、分枝链状、环状的双键之烷基或芳香族基)之Te原料;第2吹净工序,系在该Te原料导入工序之后以非活性气体来吹净;Ge原料导入工序,系导入为(R1O)4Ge或(R1O)nGeH4-n(式中,R1为碳数1~10之直链状、分枝链状、环状的烷基或芳香族基,n=1~3)之Ge原料;以及第3吹净工序,系在该Ge原料导入工序之后以非活性气体来吹净;其中,该原料导入工序及吹净工序的至少1工序中,系导入包含有氨气、甲基胺、二甲基胺、联胺、单甲基联胺、二甲基联胺及吡啶的1者或2者以上之添加气体。
地址 日本