研磨垫

摘要

本发明目的系提供一种研磨速度大、平坦化特性优异、并可抑制刮痕产生的研磨垫，其具有研磨层，该研磨层具有相分离构造。本发明研磨垫之特征在于具有研磨层，前述研磨层系藉由聚胺甲酸酯原料组成物之反应硬化体所形成，且前述反应硬化体具有相分离构造；而该聚胺甲酸酯原料组成物系含有：异氰酸酯末端预聚物(A)，其系使含异氰酸酯成分与聚酯系多元醇之预聚物原料组成物(a)反应所获得者；异氰酸酯末端预聚物(B)，其系使含异氰酸酯成分与聚醚系多元醇之预聚物原料组成物(b)反应所获得者；以及链伸长剂。

主权项

一种研磨垫，具有研磨层，其特征在于：前述研磨层系由聚胺甲酸酯原料组成物之反应硬化体所形成，且前述反应硬化体具有相分离构造；该聚胺甲酸酯原料组成物含有：异氰酸酯末端预聚物(A)，其系使含有异氰酸酯成分与聚酯系多元醇之预聚物原料组成物(a)反应所获得者；异氰酸酯末端预聚物(B)，其系使含有异氰酸酯成分与聚醚系多元醇之预聚物原料组成物(b)反应所获得者；及链伸长剂；其中前述相分离构造具有岛部与海部，且岛部的平均最大长度为0.5~100μm；其中相对于预聚物原料组成物(a)及(b)中所含高分子量多元醇之全重量，构成聚酯系多元醇之氧羰基的全重量为8~43重量%；且前述岛部系藉由以异氰酸酯末端预聚物(A)为主成分之反应硬化体所形成，而前述海部系藉由以异氰酸酯末端预聚物(B)为主成分之反应硬化体所形成。