一种具有高硬度和低摩擦系数的CrAlN/MoS₂多层涂层及其制备方法

摘要

本发明公开一种具有高硬度和低摩擦系数的CrAlN/MoS₂多层涂层及制备方法，所述CrAlN/MoS₂多层涂层，即在基体上通过多靶磁控溅射方式交替溅射沉积形成CrAlN纳米层和MoS₂纳米层，靠近基体为CrAlN纳米层，最上层为MoS₂纳米层。CrAlN/MoS₂多层涂层总厚度2.0-4.5μm，每一CrAlN纳米层厚度5.0nm，每一MoS₂纳米层厚度0.2～1.4nm。其制备方法，即将清洗后的基体置入多靶磁控溅射仪中，在氩、氮混合气氛中交替停留在CrAl合金靶和MoS₂靶之前，通过调整CrAl靶和MoS₂靶的功率和沉积时间以控制每一涂层的厚度，最终得CrAlN/MoS₂多层涂层。

主权项

一种具有高硬度和低摩擦系数的CrAlN/MoS₂多层涂层，其特征在于所述的具有高硬度和低摩擦系数的CrAlN/MoS₂多层涂层，即在基体上通过多靶磁控溅射的方式交替溅射沉积形成CrAlN纳米层和MoS₂纳米层，靠近基体的一层为CrAlN纳米层，最上层为MoS₂纳米层；所述基体为金属、硬质合金或陶瓷。