光刻仿真的方法

摘要

本发明公开了一种光刻仿真的方法。该方法包括：将物理版图内的掩膜图形划分为若干个待仿真区域；在若干个待仿真区域中搜索具有几何同构关系的待仿真区域，搜索获取的具有几何同构关系的多个待仿真区域构成区域同构序列；对若干区域同构序列中的每一个区域同构序列，以图形同构方式合并光刻仿真任务，获得光刻仿真结果。本发明光刻仿真方法中，利用区域光刻仿真数据的复用可以有效地减少复杂的仿真计算任务，在不牺牲仿真精度的条件下提高芯片整体光刻仿真速度。

主权项

一种光刻仿真的方法，其特征在于，包括：将物理版图内的掩膜图形划分为若干个待仿真区域，包括：将物理版图内的掩膜图形划分为若干个内区域；将每一个所述内区域直接相邻的掩模图形作为所述内区域对应的外区域；以及，将所述内区域和其对应的外区域共同构成一待仿真区域；在所述若干个待仿真区域中搜索具有几何同构关系的待仿真区域，搜索获取的具有几何同构关系的多个待仿真区域构成区域同构序列；以及对若干个所述区域同构序列中的每一个区域同构序列，以图形同构方式合并光刻仿真任务，获得光刻仿真结果，包括：对当前区域同构序列中的第一同构区域进行光刻仿真，获得其光刻仿真结果；以及对当前区域同构序列中除所述第一同构区域外的其他同构区域：按照该同构区域与所述第一同构区域之间的几何同构关系，对所述第一同构区域的光刻仿真结果进行变换；将所述变换后的光刻仿真结果应用于该同构区域，从而获得该同构区域的光刻仿真结果；其中，所述对当前区域同构序列中的第一同构区域进行光刻仿真，获得其光刻仿真结果的步骤包括：根据区域划分结果获取第一同构区域内的物理版图数据；根据第一同构区域内物理版图数据的光学传输特性，对内、外区域的物理版图数据作傅里叶变换，得到频域的掩模传输函数；通过所述掩模传输函数计算光束通过物理版图掩膜之后的光强度分布，该物理版图掩膜对应于所述物理版图数据，从而得到第一同构区域内物理版图掩模数据对应的光学图像；再将一个预设的函数滤波器乘以所述掩模传输函数得到滤波过的函数，再与高斯函数卷积得到空间灵敏度；以及利用所述空间灵敏度对所述光学图像进行偏差校正，得到所述第一同构区域的光刻仿真结果；其中，所述对第一同构区域的光刻仿真结果进行变换的步骤之前还包括：将所述第一同构区域光刻仿真结果进行分割，获得其对应内区域的光刻仿真结果；所述对第一同构区域的光刻仿真结果进行变换的步骤包括：对第一同构区域内区域的光刻仿真结果进行变换；所述将变换后的光刻仿真结果应用于所述其他同构区域的步骤包括：将所述将变换后的第一同构区域的内区域的光刻仿真结果应用于所述其他同构区域的内区域。