发明名称 |
双通道高能X射线透视成像系统 |
摘要 |
本实用新型通过电子加速器、屏蔽准直装置、第一探测器阵列、第二探测器阵列、各种机械组合结构的设计,利用仅一台电子加速器、两组X射线束流和两组探测器系统,同时对两个通道内的受检查对象进行透视成像。根据本实用新型的双通道高能X射线透视成像系统可以设计为固定式、组合式、轨道移动式或车载移动式等具体形势,具有结构简单、成本低、功能强、图像质量好等优点。 |
申请公布号 |
CN203772764U |
申请公布日期 |
2014.08.13 |
申请号 |
CN201320879291.7 |
申请日期 |
2013.12.30 |
申请人 |
同方威视技术股份有限公司;清华大学 |
发明人 |
唐华平;陈志强;唐传祥;陈怀璧;李元景;赵自然;刘耀红;孙尚民;阎忻水;秦占峰 |
分类号 |
G01N23/04(2006.01)I |
主分类号 |
G01N23/04(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
江鹏飞;汪扬 |
主权项 |
一种双通道高能X射线透视成像系统,包括:单台高能电子加速器、屏蔽准直装置、第一检查通道、第二检查通道、第一探测器阵列、第二探测器阵列、电源与控制子系统、信号分析与图像处理子系统;其中,高能电子加速器包括电子发射单元、电子加速单元、靶,产生的电子束流具有2MeV以上的能量;屏蔽准直装置包括屏蔽结构和至少两个准直器;两个准直器分别设置在电子束流的轴线的两侧;所述第一检查通道和第二检查通道分别位于电子加速器的两侧;第一准直器、第一探测器阵列与电子束流打靶的靶点处于第一平面内,第二准直器、第二探测器阵列与电子束流打靶的靶点处于第二平面内。 |
地址 |
100084 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层 |