发明名称 全釉薄胎陶瓷的制造方法
摘要 全釉薄胎陶瓷的制造方法,包括坯釉料制备、成型、干燥、素烧、施釉、装窑、烧成等工艺流程,其要点是:坯料配方(重量):SiO<sub>2</sub>:66.8-69.1%。Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>:23.4-29.5%。Fe<sub>2</sub>O<sub>3</sub>:0.15-0.19%。CaO:0.28-0.39%。MgO:0.67-0.79%。K<sub>2</sub>O:1.9-2.3%。Na<sub>2</sub>O:1.85-2.85%。基础釉料配方(重量):SiO<sub>2</sub>:64.8-68.5%。Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>:19.7-21.6%。Fe<sub>2</sub>O<sub>3</sub>:0.15-0.26%。CaO:1.48-1.95%。MgO:3.50-4.45%。TiO<sub>2</sub>:0.9-1.2%。K<sub>2</sub>O:2.3-2.9%Na<sub>2</sub>O:1.1-1.5%。半成品底部或口部经抛光打磨后,在成品底部或口部施一层釉,进行二次釉烧,所施的釉料是在基础釉上外加5~8%添加剂,釉烧温度控制在1000℃~1100℃。本发明的目的是解决传统薄胎陶瓷产品存在粗口、粗脚的问题,通过采用对半成品底部、口部进行抛光打磨后,在半成品底部、口部再施一层釉,再进行低温二次釉烧的方法,实现产品的全釉,解决传统薄胎陶瓷产品存在粗口、粗脚的制造方法。
申请公布号 CN101913848B 申请公布日期 2014.08.13
申请号 CN201010237551.1 申请日期 2010.07.19
申请人 邓国舟 发明人 邓国舟
分类号 C04B35/14(2006.01)I;C04B41/86(2006.01)I 主分类号 C04B35/14(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 全釉薄胎陶瓷的制造方法,包括坯釉料制备、成型、干燥、素烧、施釉、装窑、烧成工艺流程,其特征在于:(a)、坯料配方(重量):SiO<sub>2</sub>:66.8‑69.1%,Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>:23.4‑29.5%,Fe<sub>2</sub>O<sub>3</sub>:0.15‑0.19%,CaO:0.28‑0.39%,MgO:0.67‑0.79%,K<sub>2</sub>O:1.9‑2.3%,Na<sub>2</sub>O:1.85‑2.85%,(b)、基础釉料配方(重量):SiO<sub>2</sub>:64.8‑68.5%,Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>:19.7‑21.6%,Fe<sub>2</sub>O<sub>3</sub>:0.15‑0.26%,CaO:1.48‑1.95%,MgO:3.50‑4.45%,TiO<sub>2</sub>:0.9‑1.2%,K<sub>2</sub>O:2.3‑2.9%,Na<sub>2</sub>O:1.1‑1.5%,(c)、全釉工艺:半成品底部或口部经抛光打磨后,在成品底部或口部施一层釉,进行二次釉烧,所施的釉料是在基础釉上外加5~8%添加剂,釉烧温度控制在1000℃~1100℃;生产工艺的主要技术参数:(1)、坯料制备的主要工艺参数,坯料细度:泥浆过325目标准筛,筛余控制在0.05‑0.07%;泥浆用1万高斯的除铁器除铁3次;坯料含水率:20~23%;注浆泥料含水率:34~36%;坯土、注浆泥料陈腐时间:20天;(2)、釉料主要工艺参数,釉料细度:釉浆过380目标准筛,筛余控制在0.1‑0.2%;釉浆用磁场强度1万高斯的除铁器除铁5次;釉料含水率:43~46%;釉料陈腐时间:15天;(3)、成型工艺,圆形产品采用滚压成型,坯土含水率控制在21~23%;异形产品采用真空压力注浆工艺成型,注浆泥料含水率控制在33‑35%,以水玻璃调注浆料的稠度;(4)、坯体素烧工艺,坯体采用电热素烧窑进行素烧,素烧温度650℃~700℃,坯体吸水率控制在10~15%之间;(5)、釉下装饰和施釉工艺,采用手工绘画装饰工艺:勾线,汾水,上色;制品施釉采用浸釉法、喷釉法工艺,釉层厚度为0.1毫米;(6)、烧成工艺,全釉薄胎陶瓷产品,采用6立方米电脑脉冲自动控制液化石油气梭式窑,还原气氛煅烧,坯体入窑水分:1~3%;烧成温度:1300~1320℃;烧成周期:28小时;从点火至1030℃氧化阶段9小时,1030℃~1320℃还原阶段9小时,保温后停火自然冷却至室温10小时;(7)、全釉工艺,成品底部或口部经抛光打磨后,在成品底部或口部施一层釉,进行二次釉烧,釉烧温度为1000℃~1100℃。
地址 514255 广东省大埔县桃源镇昌隆陶瓷工艺厂