发明名称 | 一种用于真空镀膜设备的衬底基座 | ||
摘要 | 本实用新型涉及一种用于真空镀膜设备的衬底基座。本实用新型由带沟槽的衬底面板、螺丝、螺母和金属薄垫片组成。该衬底基座由带沟槽的衬底面板、螺丝、螺母和金属薄垫片组成;衬底面板的沟槽轨道至少有两条,且轨道之间的距离至少为3cm,沟槽轨道的宽度能容下螺丝,且螺丝杆可以在沟槽中自由移动,螺丝杆与螺母配合,螺丝杆上装有可活动的金属薄垫片。本实用新型可根据衬底的面积大小、形状差异进行不同位置的灵活固定,简单方便,尤其对面积较小、数量众多的衬底样品有很好的紧固能力,具有很好的实用性。 | ||
申请公布号 | CN203768452U | 申请公布日期 | 2014.08.13 |
申请号 | CN201420106671.1 | 申请日期 | 2014.03.10 |
申请人 | 杭州电子科技大学 | 发明人 | 黄延伟 |
分类号 | C23C14/50(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/50(2006.01)I |
代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人 | 杜军 |
主权项 | 一种用于真空镀膜设备的衬底基座,其特征在于:该衬底基座由带沟槽的衬底面板、螺丝、螺母和金属薄垫片组成;衬底面板的沟槽轨道至少有两条,且轨道之间的距离至少为3 cm,沟槽轨道的宽度能容下螺丝,且螺丝杆可以在沟槽中自由移动,螺丝杆与螺母配合,螺丝杆上装有可活动的金属薄垫片。 | ||
地址 | 310018 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街 |