发明名称 一种用于真空镀膜设备的衬底基座
摘要 本实用新型涉及一种用于真空镀膜设备的衬底基座。本实用新型由带沟槽的衬底面板、螺丝、螺母和金属薄垫片组成。该衬底基座由带沟槽的衬底面板、螺丝、螺母和金属薄垫片组成;衬底面板的沟槽轨道至少有两条,且轨道之间的距离至少为3cm,沟槽轨道的宽度能容下螺丝,且螺丝杆可以在沟槽中自由移动,螺丝杆与螺母配合,螺丝杆上装有可活动的金属薄垫片。本实用新型可根据衬底的面积大小、形状差异进行不同位置的灵活固定,简单方便,尤其对面积较小、数量众多的衬底样品有很好的紧固能力,具有很好的实用性。
申请公布号 CN203768452U 申请公布日期 2014.08.13
申请号 CN201420106671.1 申请日期 2014.03.10
申请人 杭州电子科技大学 发明人 黄延伟
分类号 C23C14/50(2006.01)I 主分类号 C23C14/50(2006.01)I
代理机构 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人 杜军
主权项  一种用于真空镀膜设备的衬底基座,其特征在于:该衬底基座由带沟槽的衬底面板、螺丝、螺母和金属薄垫片组成;衬底面板的沟槽轨道至少有两条,且轨道之间的距离至少为3 cm,沟槽轨道的宽度能容下螺丝,且螺丝杆可以在沟槽中自由移动,螺丝杆与螺母配合,螺丝杆上装有可活动的金属薄垫片。
地址 310018 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街