| 发明名称 | 有机EL器件制造装置及有机EL器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种在形成高精细的像素的基础上、能够成膜为该像素应有的位置、大小、形状的有机EL器件制造装置或有机EL器件制造方法。本发明的特征在于，对磁性体的掩模施加规定的第1磁力强度，使所述掩模紧贴于被蒸镀基板，经过了规定时间后，以比所述第1磁力强度提高了强度而成的第2磁力强度使所述掩模紧贴于所述被蒸镀基板，在真空状态下借助所述掩模将蒸镀材料蒸镀在所述被蒸镀基板上。 | ||
| 申请公布号 | CN103981490A | 申请公布日期 | 2014.08.13 |
| 申请号 | CN201410045124.1 | 申请日期 | 2014.02.07 |
| 申请人 | 株式会社日立高新技术 | 发明人 | 木谷友香;柳泽孝一;井崎良;武居彻也 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 陈伟;李文屿 |
| 主权项 | 一种有机EL器件制造方法，其特征在于，对磁性体的掩模施加规定的第1磁力强度，使所述掩模紧贴于被蒸镀基板，经过了规定时间后，以比所述第1磁力强度提高了强度而成的第2磁力强度使所述掩模紧贴于所述被蒸镀基板，在真空状态下借助所述掩模将蒸镀材料蒸镀在所述被蒸镀基板上。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||