一种气体制冷装置

摘要

本实用新型涉及一种气体制冷装置，包括支撑体，支撑体上设有半导体制冷片，半导体制冷片的制冷面上固定设置有冷凝室，支撑体的上部设有气体入口、气体出口，支撑体的底部设有排污口；气体入口、气体出口、排污口分别与冷凝室连通；冷凝室包括壳体，壳体的中间位置设有隔板，隔板与冷凝室的上侧内壁密封连接，隔板与冷凝室的下侧内壁之间具有间隔，壳体内设有若干个阻隔板，上下相邻的阻隔板之间具有间隔，左右相邻的阻隔板交叉排列，可以使冷凝的水汽吸附到冷凝室壁上，在重力以及气流的带动下，向下流至排污口排出，制冷效率高、制冷速度快并且具有除水效果。

主权项

一种气体制冷装置，其特征在于：所述气体制冷装置包括支撑体(8)，支撑体(8)上设有半导体制冷片(7)，半导体制冷片(7)的制冷面上固定设置有冷凝室(6)，支撑体(8)的上部设有气体入口(1)、气体出口(9)，支撑体(8)的底部设有排污口(10)；所述气体入口(1)、气体出口(9)、排污口(10)分别与冷凝室(6)连通；所述冷凝室(6)包括壳体(14)，壳体(14)的中间位置设有隔板(12)，隔板(12)与冷凝室(6)的上侧内壁密封连接，隔板(12)与冷凝室(6)的下侧内壁之间具有间隔，壳体(14)内设有若干个阻隔板(13)，上下相邻的阻隔板(13)之间具有间隔，左右相邻的阻隔板(13)交叉排列。