发明名称 |
高孔率介孔硅质结构 |
摘要 |
一种方法,所述方法包括:A)将选自水溶性二氧化硅源和碱金属硅酸盐的一种或多种氧化硅源与包含一种或多种非离子型表面活性剂的水性反应介质接触并从而形成包含交联氧化硅单元的介孔结构,其中所述交联氧化硅单元具有约1至约100纳米的孔并且其中所述水性反应介质表现出pH约0至约4.0;B)将包含所述介孔结构的所述水性反应介质暴露于升高的温度一段时间以足以获得期望的结构和孔尺寸。优选的水溶性二氧化硅源包括硅酸或聚硅酸。所述水性反应介质通过合并一种或多种非离子型表面活性剂和水、从而形成包含胶束的水性反应介来制备。优选地,所述水性反应介质还包含能够溶胀由所述水性反应介质中的表面活性剂形成的胶束的胶束溶胀剂。在一种实施方式中,所述方法形成具有由交联氧化硅构成的支柱的结构,所述支柱连接至少一部分所述孔形成结构。 |
申请公布号 |
CN103987661A |
申请公布日期 |
2014.08.13 |
申请号 |
CN201280057921.0 |
申请日期 |
2012.11.19 |
申请人 |
陶氏环球技术有限责任公司 |
发明人 |
B·A·基罗斯;C·L·特维;S·T·马托西;C·J·塔克;A·M·凯利-罗维利 |
分类号 |
C01B33/12(2006.01)I;C01B37/02(2006.01)I |
主分类号 |
C01B33/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
吴亦华 |
主权项 |
方法,所述方法包括:A)将选自水溶性二氧化硅源和碱金属硅酸盐的一种或多种氧化硅源与包含一种或多种非离子型表面活性剂的水性反应介质接触并从而形成包含交联氧化硅单元的介孔结构,其中所述交联氧化硅单元限定约1至约100纳米的孔,并且其中所述水性反应介质表现出pH约0至约4.0;B)将含所述介孔结构的所述水性反应介质暴露于升高的温度一段时间以足以获得期望的结构和孔尺寸。 |
地址 |
美国密歇根州 |