发明名称 |
一种防串扰的柔性透明存储阵列及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种防串扰的柔性透明存储阵列及其制备方法。本发明采用透明的选择管作为驱动管,选择管的双向导通的特性实现了电路对存储单元的重复擦除与写入,并解决了串扰问题。选择管作为存储阵列的驱动管,解决了晶体管占用面积大、二极管单极性操作的限制,可以适应器件按比例缩小的进程,而且,选择管的制备工艺简单,节省成本。本发明的材料均采用柔性透明的材料,柔性透明存储阵列把“柔性透明电子系统”、“驱动管”以及“阻变存储器”三者结合在一起,它除了具有阻变存储器本身的特性外,还具备柔性、透明等优点,尤其是解决了存储器在集成阵列中串扰的问题,制备的存储阵列可广泛应用在电子纸张、柔性透明显示及其他相关电子系统中。 |
申请公布号 |
CN102593142B |
申请公布日期 |
2014.08.13 |
申请号 |
CN201210068321.6 |
申请日期 |
2012.03.15 |
申请人 |
北京大学 |
发明人 |
黄如;白文亮;蔡一茂;唐昱;张兴 |
分类号 |
H01L27/24(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/24(2006.01)I |
代理机构 |
北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 |
代理人 |
张肖琪 |
主权项 |
一种柔性透明存储阵列的制备方法包括以下步骤:1)在硅或玻璃的基片上形成柔性透明的衬底;2)在衬底上生长一层柔性透明的导电层,光刻图形化,形成m个条状的底电极,m为自然数;3)在底电极上溅射透明的氧化物薄膜,形成功能层;4)在功能层上溅射透明的导电薄膜,形成电极层,从而制备得到了透明的选择管;5)涂覆一层光刻胶,光刻并刻蚀至底电极的上表面,形成通孔;6)淀积阻变材料,形成阻变存储层;7)光刻刻蚀在底电极上的部分阻变材料,从而定义出底电极的引出通孔,同时,形成隔离侧墙;8)在阻变存储层上生长柔性透明的导电层,光刻图形化,形成n个条状的顶电极,同时形成底电极的引出电极,n为自然数;9)分离柔性透明的衬底与基片。 |
地址 |
100871 北京市海淀区颐和园路5号 |