发明名称 |
位置感测器及微影装置 |
摘要 |
本发明揭示一种位置感测器,该位置感测器经组态以量测一目标之一位置资料。该位置感测器包括:一辐射源,该辐射源经组态以辐照一辐射光束;一第一光栅,该第一光栅经组态以将在一第一绕射方向上之该辐射光束绕射成至少一第一阶绕射光束;及一第二光栅,该第二光栅系配置于该第一阶绕射光束之一光学路径中,该第二光栅经组态以在实质上垂直于该第一绕射方向之一第二绕射方向上绕射在该第一光栅处绕射之该第一阶绕射光束。该第二光栅系连接至该目标。一第一侦测器经组态以侦测藉由该第一光栅绕射的该光束之至少一部分,且至少一第二侦测器经组态以侦测藉由该第一光栅及该第二光栅绕射的该光束之至少一部分。 |
申请公布号 |
TWI448831 |
申请公布日期 |
2014.08.11 |
申请号 |
TW100118720 |
申请日期 |
2011.05.27 |
申请人 |
ASML荷兰公司 荷兰 |
发明人 |
毕瑞恩斯 洛德 安东尼斯 凯萨琳娜 玛利亚;德 葛路特 安东尼司 法兰西斯科司 乔汉尼司;费尔莫默朗 约翰内斯 佩特鲁斯 马丁努斯 伯纳德斯 |
分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
林嘉兴 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
一种经组态以量测一目标之一位置资料之位置感测器,该位置感测器包含:一辐射源,该辐射源经组态以提供一辐射光束,该辐射光束具有一传播方向;一第一光栅,该第一光栅经组态以将该辐射光束绕射成至少一第一绕射光束,该至少一第一绕射光束具有在实质上垂直于该传播方向之一第一绕射方向上之一传播方向分量;一第二光栅,该第二光栅系配置于该第一绕射光束之一光学路径中,该第二光栅经组态以将在该第一光栅处绕射之该第一绕射光束绕射成至少一第二绕射光束,该至少一第二绕射光束具有在实质上垂直于该第一绕射方向且垂直于该传播方向之一第二绕射方向上之一传播方向分量,该第二光栅系连接至该目标;一第一侦测器,该第一侦测器经组态以侦测藉由该第一光栅绕射的该第一绕射光束之至少一部分;及一第二侦测器,该第二侦测器经组态以侦测藉由该第一光栅及该第二光栅绕射的该第二绕射光束之至少一部分。 |
地址 |
荷兰 |