发明名称 |
曝光装置及光源装置 |
摘要 |
本发明系提供一种耗电量少寿命长,且可将所需波长带之光以所需之光量有效率地射出而进行曝光之曝光装置及光源装置。光源单元41系具备有第1LED阵列411、第1透镜阵列412、第2LED阵列413、第2透镜阵列414、分光镜415、第3透镜阵列416、及第1成像光学系统417。第1LED阵列411系射出中心波长385 nm之光。第2LED阵列413系射出中心波长365 nm之光。分光镜415系将第2LED阵列413之发光部413c之影像叠合于第1LED阵列411之发光部411c之影像加以合成。 |
申请公布号 |
TWI448833 |
申请公布日期 |
2014.08.11 |
申请号 |
TW100127353 |
申请日期 |
2011.08.02 |
申请人 |
大日本网屏制造股份有限公司 日本 |
发明人 |
小久保正彦;城田浩行 |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼 |
主权项 |
一种光源装置,其特征在于,具备有:第1光源阵列,其系排列有复数个具有射出第1波长特性之光的发光部之光源元件;第1透镜阵列,其系排列有复数个形成上述第1光源阵列之各光源元件的发光部之放大影像之透镜;第2光源阵列,其系排列有复数个具有射出第2波长特性之光的发光部之光源元件;第2透镜阵列,其系排列有复数个形成上述第2光源阵列之各光源元件之发光部的放大影像之透镜;光学合成元件,其系将上述第1透镜阵列所形成之上述第1光源阵列发光部之影像、与上述第2透镜阵列所形成之上述第2光源阵列发光部之影像叠合而形成合成影像;及均匀化元件,其系使上述光学合成元件所合成之合成影像之光束成为均匀之照度分布之光束射出;上述第1透镜阵列系将上述第1光源阵列之各光源元件之发光部放大投影为该光源元件之排列间距之大小,上述第2透镜阵列系将上述第2光源阵列之各光源元件之发光部放大投影为该光源元件之排列间距之大小。 |
地址 |
日本 |