| 发明名称 | 一种吡喃类含氟化合物、制备方法及其用途 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种吡喃类含氟化合物，其结构如通式(I)所示。本发明还涉及了所述吡喃类含氟化合物的制备方法以及其在制备液晶材料中的用途。本发明技术方案提供了一种吡喃类含氟衍生化合物，合成方法简便，能改变现有液晶材料的性质，使液晶材料更加适用于TFT液晶显示器件，扩大了液晶化合物的种类、提升了液晶材料的品质，具有广阔的应用前景。<img file="DDA00001738370000011.GIF" wi="481" he="309" /> | ||
| 申请公布号 | CN102718736B | 申请公布日期 | 2014.08.06 |
| 申请号 | CN201210186974.4 | 申请日期 | 2012.06.07 |
| 申请人 | 北京八亿时空液晶科技股份有限公司 | 发明人 | 杭德余;梁现丽;姜天孟;田会强;陈海光;高立龙;班全志;贺树芳 |
| 分类号 | C07D309/04(2006.01)I;C07D309/06(2006.01)I;C09K19/34(2006.01)I | 主分类号 | C07D309/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 王朋飞;张庆敏 |
| 主权项 | 一种吡喃类含氟化合物，其结构为：<img file="FDA0000507335060000011.GIF" wi="1608" he="275" /><img file="FDA0000507335060000012.GIF" wi="771" he="260" />或<img file="FDA0000507335060000013.GIF" wi="845" he="265" /> | ||
| 地址 | 100085 北京市海淀区上地十街1号院2号楼2013 | ||