| 发明名称 | 基于膜的传感器设备及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及基于膜的传感器设备及其制造方法。感测设备具有带有开口(12)的半导体衬底(1)和横跨所述开口(12)的膜(13)。在所述膜(13)上设置有加热器(5)。为降低所述膜（13)的热导率，从下面蚀刻凹槽(17)到所述膜(13)中。 | ||
| 申请公布号 | CN103969296A | 申请公布日期 | 2014.08.06 |
| 申请号 | CN201410056939.X | 申请日期 | 2014.01.29 |
| 申请人 | 盛思锐股份公司 | 发明人 | R·苏尼尔;C·库尔敏;R·胡梅尔 |
| 分类号 | G01N27/04(2006.01)I;G01F1/69(2006.01)I | 主分类号 | G01N27/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 宋超 |
| 主权项 | 一种传感器设备，包括：衬底(1)，其具有顶面(8)和底面(7)以及在所述顶面和底面(7，8)之间延伸的开口(12)，施加到所述顶面(8)的批量材料层(9)，其中至少一些所述材料层延伸在所述开口(12)上以形成膜(13)，设置在所述膜(13)上的加热器(5)，其特征在于，所述传感器设备包括凹槽(17)，其在所述膜(13)的位置处从下面延伸至所述批量材料层(9)中。 | ||
| 地址 | 瑞士施泰法 | ||