隔离结构及其制造方法;ISOLATION STRUCTURE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

摘要

一种隔离结构之制造方法,其方法包含下列步骤。首先,提供一基底,基底上形成有复数个半导体图案,其中基底与复数个半导体图案之表面化学性质不同。接着,利用基底与复数个半导体图案之表面化学性质不同,仅于复数个半导体图案表面形成一自组装分子层。然后,于复数个半导体图案间之基底表面上形成一绝缘层。以及,去除自组装分子层而露出复数个半导体图案表面。