发明名称 净化物体之设备与方法
摘要 本发明系关于一种用于净化薄及/或易碎晶圆(6)的设备,其中,该等晶圆(6)藉由其一侧边固定在承载装置(2)上,每两个相邻晶圆之间各形成一间隙(7)。该设备基本由下列组件构成:-喷淋装置(15),藉由该喷淋装置将流体送入各间隙(7)中,该喷淋装置具有至少一个喷淋元件(16),该喷淋元件采用两部分式设计,具有多个喷嘴,其中,在该槽(14)之纵侧各布置一个部分,且此二部分均平行于该槽之纵轴延伸,且就其流动方向而言为相对定位,-槽(14),该槽内可灌注流体,其尺寸能够将该承载装置(2)容置在该槽中,以及-交替控制装置,藉由该交替控制装置可对该至少一个喷淋元件(16)的两个部分进行控制,以便使直接面对面的喷嘴不会同时被启动,其中,该启动系涉及流体之射出或吸入。
申请公布号 TWI447832 申请公布日期 2014.08.01
申请号 TW097148063 申请日期 2008.12.10
申请人 雷纳公司 德国 发明人 罗兰 迪钱特 瓦格纳;诺伯特 柏格
分类号 H01L21/67;H01L21/02;B08B3/04 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种用于净化薄或易碎晶圆(6)的设备,其中,该等晶圆(6)藉由其一侧边固定在承载装置(2)上,且其中两个相邻晶圆(6)之间各形成一间隙(7),其由下列构成:一槽(14),该槽内可灌注流体,其尺寸能够将该承载装置(2)容置在该槽中,一喷淋装置(15),藉由该喷淋装置将流体送入各自的间隙(7)中,该喷淋装置具有至少一个喷淋元件(16),该喷淋元件具有多个喷嘴且采用一两部分之设计,其中,每一部分各在该槽(14)之一长侧上纵向布置,其布置方式是使该两部分均平行于该槽之纵轴延伸,且相对于其流动方向而定位于相对之方向,一交替控制装置,藉由该交替控制装置该至少一个喷淋元件(16)的该两部分均可彼此从另一部分独立控制,其中,该至少一个喷淋元件(16)的该两部分可以一用于射出之高压及一用于吸入流体之低压来启动。
地址 德国