发明名称 带电粒子束照射系统以及带电粒子束照射计划方法
摘要 本发明提供一种能够计划有效的带电粒子束的照射的带电粒子束照射系统以及带电粒子束照射计划方法。本发明所涉及的带电粒子束照射系统(1)具备:照射部(13),向肿瘤(A)照射带电粒子束(R);耐辐射性状况测定部(21)及PET装置(14),测定肿瘤(A)的耐辐射性状况;耐辐射性区域划分部(22),根据耐辐射性状况的测定结果,将肿瘤(A)划分为多个耐辐射性区域(T1、T2);剂量计算部(23),针对多个耐辐射性区域中的每个区域,计算带电粒子束的照射剂量的计划值;以及照射计划修正部(24),根据剂量计算部(23)的计算结果,计划针对肿瘤(A)的带电粒子束(R)的照射。
申请公布号 CN103945901A 申请公布日期 2014.07.23
申请号 CN201280048146.2 申请日期 2012.10.09
申请人 住友重机械工业株式会社;国立癌症中心 发明人 佐佐井健蔵;西尾祯治
分类号 A61N5/10(2006.01)I;G21K5/04(2006.01)I 主分类号 A61N5/10(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 徐殿军
主权项 一种带电粒子束照射系统,向被照射体照射带电粒子束,其特征在于,具备:照射部,向所述被照射体照射带电粒子束;耐辐射性状况测定机构,测定所述被照射体的耐辐射性状况;区域划分机构,根据所述耐辐射性状况测定机构的测定结果,将所述被照射体划分为多个耐辐射性区域;剂量计算机构,针对所述区域划分机构划分出的所述多个耐辐射性区域中的每个区域,计算带电粒子束的照射剂量的计划值;以及照射计划机构,根据所述剂量计算机构的计算结果,生成针对所述被照射体的带电粒子束的照射计划。
地址 日本东京都
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