发明名称 磁控溅射镀膜装置用的载具结构
摘要 一种磁控溅射镀膜装置用的载具结构,属于工装夹具技术领域。包括一基座,在基座的一端构成有一镀膜基片承载盘固定座,并且在镀膜基片承载盘固定座上开设有一镀膜基片承载盘固定腔,另一端构成有一连接把;一镀膜基片承载盘,该镀膜基片承载盘在使用状态下与所述镀膜基片承载盘固定腔配合,特征在于在所述的镀膜基片承载盘的一侧表面并且围绕镀膜基片承载盘的圆周方向以间隔状态构成有复数个镀膜基片容纳腔。由于在镀膜基片承载盘的一侧表面并且围绕镀膜基片承载盘的圆周方向以间隔状态构成有复数个镀膜基片容纳腔,因而可满足对复数枚有待于溅射镀膜的镀膜基片的设置要求,有助于提高溅射镀膜效率、避免材料浪费、节省能源和减轻操作者的操作强度。
申请公布号 CN203728922U 申请公布日期 2014.07.23
申请号 CN201420047557.6 申请日期 2014.01.24
申请人 常熟理工学院 发明人 侯海虹;李建;欧志敏;刘璐;李晨茜;张涛;徐正亚;潘启勇
分类号 C23C14/50(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/50(2006.01)I
代理机构 常熟市常新专利商标事务所 32113 代理人 朱伟军
主权项 <b>一种磁控溅射镀膜装置用的载具结构,包括一基座(1),在该基座(1)的一端构成有一镀膜基片承载盘固定座(11),并且在该镀膜基片承载盘固定座(11)上开设有一镀膜基片承载盘固定腔(111),另一端构成有一在使用状态下用于与磁控溅射镀膜装置的溅射镀膜仓固定的连接把(12);一镀膜基片承载盘(2),该镀膜基片承载盘(2)在使用状态下与所述镀膜基片承载盘固定腔(111)配合,其特征在于在所述的镀膜基片承载盘(2)的一侧表面并且围绕镀膜基片承载盘(2)的圆周方向以间隔状态构成有复数个镀膜基片容纳腔(21)。</b>
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