制备化学机械抛光浆体之方法、从基材中移除铜层的方法及可高度稀释的抛光浓缩物

摘要

本揭示提供一种使用于化学机械抛光浆体中的浓缩物；及一种将该浓缩物稀释至使用浆体的点之方法。该浓缩物包含研磨物质、错合剂及腐蚀抑制剂，及该浓缩物以水及氧化剂稀释。这些组份的存在量能让该浓缩物可以非常高稀释比率稀释，而不影响抛光性能。

主权项

一种制备一化学机械抛光浆体之方法，其包括：将水及氧化剂加入至一浓缩物，其中该浓缩物包含：以该浓缩物之总重量为基准，约0.5重量%至约10重量%的研磨物质；以该浓缩物之总重量为基准，约1重量%至约20重量%的错合剂；及一腐蚀抑制剂，其中以由下式所支配的量将该水及该氧化剂加入至该浓缩物：0.8≦[氧化剂]/f≦2.0，其中f=A+B*[错合剂]C，其中A在0.35至0.8间、B在0.3至0.5间及C为约1；及[氧化剂]与[错合剂]各别为在该化学机械抛光浆体中的氧化剂及错合剂之量，以形成该化学机械抛光浆体。