发明名称 静电放电保护装置及其电路
摘要 本发明系揭示用于静电保护之装置及其电路。依本发明,用于静电放电保护之装置包括形成在一半导体基体上之第1~第3井孔(well);一第1装置,其含有一井孔捡拾区(well pick-up region),一源极(source)区与一双扩散汲极(drain)区,该等区系形成于第1井孔上之预定区域中,及一闸极(gate),系形成于半导体基体之一预定区域中;一第2装置,其含有一源极区,一双扩散汲极区与一第1活动(active)区,该等区系形成在第2井孔上之预定区域中,及一闸极,系形成在半导体基体之一预定区域中,以及一形成在第3井孔上之一第2活动区;其中该第1装置之闸极、源极区及井孔捡拾区系接至接地垫;而该第1装置之汲极及该第2装置之源极与闸极则接至电源垫;且该第2装置之汲极与第1活动区,及第2活动区系接至I/O垫。因此,单一个ESD保护装置即可应付产生于各I/O胞(cell)中六种模式的ESD应力,因而用以配置ESD保护所须之面积即可减少。
申请公布号 TWI446513 申请公布日期 2014.07.21
申请号 TW094103315 申请日期 2005.02.03
申请人 美格纳半导体有限公司 南韩 发明人 金吉浩
分类号 H01L23/60 主分类号 H01L23/60
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种用于静电放电保护之装置,包括:形成在一半导体基体上之第1至第3井孔;一第1装置,包括形成在该1井孔上之复数个预定区域中的一井孔捡拾区、一源极区及双扩散汲极区,以及形成在半导体基体上之一预定区域中之一闸极;一第2装置,包括形成在该第2井孔上之复数个预定区域中的一源极区、一双扩散汲极区及一第1活动区,以及形成在半导体基体上之一预定区域中之一闸极;及形成在第3井孔上之一第2活动区;其中该第1装置之闸极、源极区及井孔捡拾区系连接于一接地垫;该第1装置之汲极、及该第2装置之源极与闸极系连接于一电源垫;而该第2装置之汲极与第1活动区、及该第2活动区系连接于一I/O垫。
地址 南韩