真空处理装置

摘要

一种真空处理装置（10），如果使插入在贯通孔（24）中的升降销（27）上升，则载置台（21）上的基板（31）被载置到与升降销（27）的上端连接的盖部件（26）上，从载置台（21）的载置面离开，如果使升降销（27）下降，则基板（31）接触而被载置到载置面上，在设在载置台（21）的载置面上的凹陷（22）的底面中的与盖部件（26）面对的部分上，设有将贯通孔（24）的开口（23）的周围包围的环状的密封部件（25），如果使升降销（27）下降，则盖部件（26）以环状接触在密封部件（25）上，通过密封部件（25）将贯通孔（24）的内侧的空间与外侧的空间分离，防止气体向贯通孔（24）的流入。

主权项

一种真空处理装置，其特征在于，具有：真空槽；载置台，在台载置面上载置基板，所述台载置面朝向上方且配置于上述真空槽内；凹陷，设在上述台载置面上；贯通孔，设在上述载置台上，开口在上述凹陷的内部表面上露出；升降销，被插入到上述贯通孔中，上端连接在上述盖部件上；升降装置，使上述升降销升降移动；和盖部件，设在上述升降销的上端，通过由上述升降装置进行的上述升降销的升降移动，能够在上述凹陷的内部的位置与比上述凹陷靠上方的位置之间升降移动；在上述凹陷的上述内部表面上，设有将上述开口以环状包围的环状的密封部件；通过上述升降销的下降移动，上述盖部件中上述盖部件的背面和上述凹陷的上述内部表面与上述密封部件接触，上述密封部件被推压而变形；上述盖部件在上述盖部件与上述密封部件接触的部分、和上述凹陷的上述内部表面与上述密封部件接触的部分将上述开口分别以环状包围的状态下，配置在上述凹陷的内部。