| 发明名称 |
研磨液组成物 |
| 摘要 |
一种研磨液组成物，包括研磨颗粒、聚乙二醇、溶剂以及阳离子添加物。上述研磨液组成物适用于化学机械研磨制程，于同时对氮化矽层与氧化矽层进行研磨时，可藉由调整成份间的含量比例，控制氮化矽对氧化矽的移除比为大于1、等于1或小于1。 |
| 申请公布号 |
TWI444460 |
申请公布日期 |
2014.07.11 |
| 申请号 |
TW101117443 |
申请日期 |
2012.05.16 |
| 申请人 |
盟智科技股份有限公司 桃园县中坜市东园路33号 |
发明人 |
何云龙;张松源;陆明辉;何明彻;江崇玮 |
| 分类号 |
C09K3/14 |
主分类号 |
C09K3/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
| 主权项 |
一种研磨液组成物，包括：研磨颗粒；聚乙二醇；溶剂；以及阳离子添加物，其中所述研磨颗粒之含量为0.1重量%至25重量%，所述聚乙二醇之含量为1ppm至2,000ppm，以及所述阳离子添加物的含量为1ppm至500ppm。 |
| 地址 |
桃园县中坜市东园路33号 |
