发明名称 СЛОИСТАЯ СТРУКТУРА С ЗАЩИТНЫМ СЛОЕМ И ОБЛУЧЕННЫМ ФОТОПОЛИМЕРНЫМ СЛОЕМ, СПОСОБ ЕЕ ПОЛУЧЕНИЯ, А ТАКЖЕ ПРИМЕНЕНИЕ ЭТОЙ СЛОИСТОЙ СТРУКТУРЫ
摘要 1. Слоистая структура с защитным слоем и облученным фотополимерным слоем, причем защитный слой может быть получен в результате взаимодействия по меньшей мере одной радиационно-отверждаемой смолы I), одной содержащей изоцианатные функциональные группы смолы II) и системы фотоинициаторов III), и в радиационно-отверждаемой смоле I) содержится ≤5 мас.% соединений со среднемассовой молекулярной массой < 500 и ≥75 мас.% соединений со среднемассовой молекулярной массой > 1000, в со держащей изоцианатные функциональные группы смоле II) содержится ≤ 5 мас.% соединений со среднемассовой молекулярной массой < 500, и в защитном слое содержится по меньшей мере до 80 мас.% радиационно-отверждаемой смолы I) и максимально до 15 мас.% содержащей изоцианатные функциональные группы смолы II).2. Слоистая структура по п.1, отличающаяся тем, что фотополимерный слой содержит сшитые матричные полимеры А), которые могут получаться в результате взаимодействия по меньшей мере одного полиизоцианатного компонента а) и реакционноспособного в отношении изоцианатов компонента b), сшитые записывающие мономеры В), фотоинициатор С) и катализатор D).3. Слоистая структура по п.1, отличающаяся тем, что радиационно-отверждаемая смола I) включает по меньшей мере одно содержащее сложные полиэфиры, простые полиэфиры, поликарбонаты и/или полиуретаны связующее вещество с группами, способными к радикальной полимеризации, причем в случае способных к радикальной полимеризации речь предпочтительно идет об акрильных, метакрильных, аллильных, винильных, малеинильных и/или фумарильных группах, особенно предпочтительно об акрильных и/или метакрильных группах и наиболее предпо�
申请公布号 RU2012157530(A) 申请公布日期 2014.07.10
申请号 RU20120157530 申请日期 2012.12.27
申请人 Байер Интеллектуэль Проперти ГмбХ 发明人 ФЭККЕ Томас;БРУДЕР Фридрих-Карл;РЕЛЛЕ Томас;ВАЙЗЕР Марк-Штэфан;ХЕНЕЛЬ Деннис;БЕРНЕТ Хорст;ФЛЕММ Утэ
分类号 B32B27/00 主分类号 B32B27/00
代理机构 代理人
主权项
地址