| 发明名称 | 超导薄膜材料及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种能够同时获得如高J<sub>C</sub>和高I<sub>C</sub>的优良性能并降低成本的超导薄膜材料(1)，所述超导薄膜材料(1)包括取向金属衬底(10)和在该取向金属衬底(10)上形成的氧化物超导膜(30)。所述氧化物超导膜(30)包括通过物理气相沉积法形成的物理气相沉积HoBCO层(31)和通过有机金属沉积法在所述物理气相沉积HoBCO层(31)上形成的有机金属沉积HoBCO层(32)。 | ||
| 申请公布号 | CN101449341B | 申请公布日期 | 2014.07.09 |
| 申请号 | CN200780018363.6 | 申请日期 | 2007.04.20 |
| 申请人 | 住友电气工业株式会社 | 发明人 | 母仓修司;大松一也;上山宗谱;长谷川胜哉 |
| 分类号 | H01B12/06(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L39/24(2006.01)I | 主分类号 | H01B12/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 陈海涛;王海川 |
| 主权项 | 一种超导薄膜材料(1)，包括：衬底(10)；和在所述衬底(10)上形成的超导膜(30)；所述超导膜(30)包括：通过物理气相沉积法形成的物理气相沉积层(31)，以及通过有机金属沉积法在所述物理气相沉积层上形成的有机金属沉积层(32)，其中多个由所述物理气相沉积层(31)和所述有机金属沉积层(32)的组合构成的结构在所述超导膜(30)中堆叠。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||