发明名称 | 光取向用偏振光照射装置 | ||
摘要 | 本实用新型提供一种光取向用偏振光照射装置和光取向用偏振光照射方法,能够对板状构件进行光取向加工,能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光,台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1),在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。 | ||
申请公布号 | CN203705775U | 申请公布日期 | 2014.07.09 |
申请号 | CN201420043416.7 | 申请日期 | 2014.01.23 |
申请人 | 优志旺电机株式会社 | 发明人 | 佐藤伸吾 |
分类号 | G02F1/1337(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1337(2006.01)I |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 胡建新;朴勇 |
主权项 | 一种光取向用偏振光照射装置,其特征在于,具备:照射单元,向所设定的照射区域照射偏振光;台,载置基板;以及台移动机构,通过使台向照射区域移动,使得向台上的基板照射偏振光,作为台,设置有第一台和第二台这两个台,台移动机构使第一台从设定于照射区域的一侧的第一基板搭载位置向照射区域移动,并且使第二台从设定于照射区域的另一侧的第二基板搭载位置向照射区域移动,台移动机构在第一台上的基板经过照射区域之后使第一台返回到第一侧,并且在第二台上的基板经过照射区域之后使第二台返回到第二侧,在位于第一基板搭载位置的第一台与照射区域之间确保第二台上的基板经过照射区域的量以上的空间,在位于第二基板搭载位置的第二台与照射区域之间确保第一台上的基板经过照射区域的量以上的空间。 | ||
地址 | 日本东京都 |