发明名称 真空控制阀以及真空控制系统
摘要 提供真空控制阀以及真空控制系统。真空控制阀包括:控制阀主体,具有连接真空容器和真空泵的流路、形成于流路的阀座;动作部,具有阀体、活塞、连结阀体和活塞的杆,阀体通过调节提升量操控阀开度,通过与阀座抵接切断流路;汽缸,与控制阀主体连接并收纳活塞;施压部,在使提升量减小的方向上对动作部施压;调压阀,追随活塞的动作,密封活塞外周面与汽缸内周面之间的间隙。动作部及汽缸包括:阀开度操控室,是由调压阀密封且具有呈包围杆的筒形的空间,根据工作流体的作用压力对活塞在使提升量增大的方向上产生载荷;切断载荷产生室,形成于杆的内部,与阀开度操控室共中心轴线,在被供给工作流体时,对动作部在使提升量减小的方向上产生载荷。
申请公布号 CN103912720A 申请公布日期 2014.07.09
申请号 CN201410114225.X 申请日期 2011.01.10
申请人 CKD株式会社 发明人 板藤宽;绞缬雅之
分类号 F16K51/02(2006.01)I 主分类号 F16K51/02(2006.01)I
代理机构 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人 余朦;杨莘
主权项 真空控制阀,连接在真空容器和真空泵之间并通过工作流体操控阀开度以对所述真空容器内的真空压力进行控制,其特征在于,包括:控制阀主体,具有将所述真空容器和所述真空泵连接的流路、以及形成于所述流路的阀座;动作部,具有阀体、活塞以及连结所述阀体和所述活塞的杆,所述阀体通过调节提升量来操控所述阀开度,通过与所述阀座抵接进行所述流路的切断,其中,所述提升量为所述阀体与所述阀座之间的距离;汽缸,与所述控制阀主体连接并收纳所述活塞;施压部,在使所述提升量减小的方向上对所述动作部施压;以及调压阀,追随所述活塞的动作,并对所述活塞的外周面与所述汽缸的内周面之间的间隙进行密封,其中,所述动作部及所述汽缸包括:阀开度操控室,是由所述调压阀密封且具有呈包围所述杆的筒形形状的空间,所述阀开度操控室根据所述工作流体的作用压力对所述活塞在使所述提升量增大的方向上产生载荷;以及切断载荷产生室,形成于所述杆的内部,与所述阀开度操控室共中心轴线,在被供给所述工作流体时,对所述动作部在使所述提升量减小的方向上产生载荷。
地址 日本爱知县