WBN硬质纳米结构薄膜及制备方法

摘要

本发明公开了一种WBN硬质纳米结构薄膜及其制备方法，其特征在于该薄膜是利用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上，薄膜分子式为（W,B）N，厚度在1-3um。沉积时,真空度优于3.0×10^-3Pa,以氩气起弧，氮气为反应气体，氩氮流量比10:（6-15），溅射气压0.3Pa，W靶溅射功率80-200W，B靶溅射功率0-150W。该方法生产效率高，所得薄膜兼具高硬度和优异的摩擦性能，可作为高速、干式切削的纳米结构硬质薄膜。

主权项

一种WBN硬质纳米结构薄膜，其特征在于是采用双靶共焦射频反应溅射法在硬质合金或陶瓷基体上制备得到，分子式为（W,B）N，厚度在1‑3um，当W靶功率为120W，B靶功率大于40W时，薄膜中形成了非晶BN。