发明名称 真空灭弧室用屏蔽罩封接结构
摘要 本实用新型公开了真空灭弧室用屏蔽罩封接结构,属于电真空器件制造技术领域,主要解决现有屏蔽罩与瓷壳封接后形成的应力较大的问题。本实用新型包括具有台阶(1)的瓷壳(2),与瓷壳(2)封接的屏蔽筒(3),其特征在于:所述屏蔽筒(3)通过封接环(4)与瓷壳(2)封接;所述封接环(4)为环形薄壁结构,且弯折形成一个以上的凸出件(5),该封接环(4)内径与屏蔽筒(3)外径相匹配、封接环(4)外径则与瓷壳(2)内径相匹配。本实用新型具有制造工艺简单,成本较低,真空灭弧室开断性能可靠,电场分布均匀,耐雷电冲击能力强,使用寿命长等优点。
申请公布号 CN203690205U 申请公布日期 2014.07.02
申请号 CN201420004656.6 申请日期 2014.01.06
申请人 成都凯赛尔电子有限公司 发明人 王强;肖红
分类号 H01H33/664(2006.01)I 主分类号 H01H33/664(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 真空灭弧室用屏蔽罩封接结构,包括具有台阶(1)的瓷壳(2),与瓷壳(2)封接的屏蔽筒(3),其特征在于:所述屏蔽筒(3)通过封接环(4)与瓷壳(2)封接;所述封接环(4)为环形薄壁结构,且弯折形成一个以上的凸出件(5),该封接环(4)内径与屏蔽筒(3)外径相匹配、封接环(4)外径则与瓷壳(2)内径相匹配。
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