发明名称 |
一种半导体薄膜高温变形传感器 |
摘要 |
本发明属于结构与材料变形监测领域,涉及一种半导体薄膜高温变形传感器,由基底层3、绝缘隔离层1、半导体薄膜敏感栅1和信号引出端4构成,所述的半导体薄膜敏感栅3通过信号引出端4连接到与外部测量设备,其特征在于,所述的基底层3上沉积有绝缘隔离层2,所述的半导体薄膜敏感栅1是沉积在绝缘隔离层2上的氧化铟锡薄膜;所述的半导体薄膜敏感栅1迂回弯折,沿被测构件变形方向排布在绝缘隔离层2的表面,其两端分别连接一个信号引出端4。本发明能够准确监测金属构件从室温到600℃范围的变形速率,精度高,测试结果可靠、可重复。装置结构简单,成本低廉,安装方便,不受被测构件外形影响,有很高的工程应用价值。 |
申请公布号 |
CN103900460A |
申请公布日期 |
2014.07.02 |
申请号 |
CN201210585558.1 |
申请日期 |
2012.12.28 |
申请人 |
华东理工大学 |
发明人 |
涂善东;王迪;栾伟玲 |
分类号 |
G01B7/16(2006.01)I |
主分类号 |
G01B7/16(2006.01)I |
代理机构 |
上海三和万国知识产权代理事务所(普通合伙) 31230 |
代理人 |
刘立平 |
主权项 |
一种半导体薄膜高温变形传感器,由基底层(3)、绝缘隔离层(2)、半导体薄膜敏感栅(1)和一对信号引出端(4)构成,所述的半导体薄膜敏感栅(3)通过信号引出端(4)连接到与外部测量设备,其特征在于,所述的基底层(3)上沉积有绝缘隔离层(2),所述的半导体薄膜敏感栅(1)是沉积在绝缘隔离层(2)上的氧化铟锡薄膜;所述的半导体薄膜敏感栅(1)迂回弯折,沿被测构件变形方向排布在绝缘隔离层(2)的表面,其两端分别连接一个信号引出端(4)。 |
地址 |
200237 上海市徐汇区梅陇路130号 |