发明名称 |
一种用于折反射式投影物镜的热效应控制装置 |
摘要 |
一种用于折反射式投影物镜的热效应控制装置,包括热效应校正光束产生装置、反射镜和挡光片,热效应校正光束产生装置出射的校正光束的数值孔径与投影物镜物方数值孔径一致,校正光束入射至投影物镜的前组的第一个镜片,在该镜片上,校正光束的位置、形状与经过掩模的有效成像光束的位置、形状关于X轴对称分布,且互不交叠,使镜片上的光能量呈对称分布,镜片表面由于热效应产生的形变也呈对称分布状态,校正光束由挡光片阻挡,而不入射至投影物镜的反射镜组上。 |
申请公布号 |
CN103901623A |
申请公布日期 |
2014.07.02 |
申请号 |
CN201210581990.3 |
申请日期 |
2012.12.28 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
朱立荣 |
分类号 |
G02B27/09(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I;G02B17/08(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G02B27/09(2006.01)I |
代理机构 |
北京连和连知识产权代理有限公司 11278 |
代理人 |
王光辉 |
主权项 |
一种用于折反射式投影物镜的热效应控制装置,所述热效应控制装置包括热效应校正光束产生装置、反射镜和挡光片,热效应校正光束产生装置出射的校正光束的数值孔径与投影物镜物方数值孔径一致,校正光束入射至投影物镜的前组的第一个镜片,在该镜片上,校正光束的位置、形状与经过掩模的有效成像光束的位置、形状关于X轴对称分布,且互不交叠,使所述镜片上的光能量呈对称分布,所述镜片表面由于热效应产生的形变也呈对称分布状态,所述校正光束由挡光片阻挡,而不入射至投影物镜的反射镜组上。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 |