透明导电基板、其制造方法，以及具有其的触控面板

摘要

一种透明导电基板、其制造方法，以及包括其的触控面板。所述透明导电基板包括在玻璃基板上依次提供的第一薄膜层、第二薄膜层和透明导电膜。所述第一薄膜层具有在550nm波长下在2.2至2.7范围内的折射率以及在7.6nm至9.4nm范围内的厚度。所述第二薄膜层具有在550nm波长下在1.4至1.5范围内的折射率以及在37nm至46.2nm范围内的厚度。所述透明导电膜由透明导电材料制成，所述透明导电材料具有在550nm波长下在1.8至2.0范围内的折射率材料。所述透明导电膜的所述厚度在24nm至38.5nm范围内。

主权项

一种透明导电基板，包括：玻璃基板；在所述玻璃基板上提供的第一薄膜层，其中所述第一薄膜层在550nm波长下的折射率在2.2至2.7范围内，并且所述第一薄膜层的厚度在7.6nm至9.4nm范围内；在所述第一薄膜层上提供的第二薄膜层，其中所述第二薄膜层在550nm波长下的折射率在1.4至1.5范围内，并且所述第二薄膜层的厚度在37nm至46.2nm范围内；和在所述第二薄膜上提供的透明导电膜，其中所述透明导电膜包括透明导电材料，所述透明导电材料在550nm波长下的折射率在1.8至2.0范围内，并且所述透明导电膜的厚度在24nm至38.5nm范围内。