用于电浆增强基板处理之沉积遮罩;DEPOSITION SHIELD FOR PLASMA ENHANCED SUBSTRATE PROCESSING

摘要

本文提供用于电浆处理基板的方法及设备。在一些实施例中，用于处理具有给定宽度的基板的沉积遮罩可以包括具有第一复数个孔的第一板，该第一复数个孔经设置而通过该第一板之厚度；以及位于该第一板下方并具有第二复数个孔的第二板，该第二复数个孔经设置而通过该第二板之厚度，其中该第一复数个孔和该第二复数个孔中的个别孔并未对齐。