基板处理系统、粒子处理系统及测量粒子束特性的装置及其方法

摘要

揭露一种侦测粒子束特色之装置及其方法。在一实施例中，装置可以具有包括第一端与第二端的主体以及位于第一端与第二端之间的至少一侦测器。装置可以具有透明度状态，也就是进入装置的一部分的粒子可以通过装置的状态。装置也可以具有最小透明度状态，也就是避免实质上进入装置的所有粒子通过装置且侦测粒子的状态。可以藉由转动装置或包含于装置中的侦测器来达到不同的透明度状态。有可能使用此装置来侦测粒子束特性，诸如粒子束强度、角度、平行度以及粒子束中的粒子的分布。

主权项

一种测量粒子束特性的装置，包括：主体，包括定义腔体的侧壁、第一端、入射孔、第二端以及出射孔，其中所述入射孔接近所述第一端以接收多个粒子，所述出射孔接近所述第二端，所述第一端相对于所述第二端，且所述入射孔、所述腔体以及所述出射孔彼此连通；以及至少一侦测器，配置在所述腔体中且构造成用以侦测至少一部分的所述粒子的粒子束角度、粒子束平行度以及所述粒子的角度分布中的至少一者，其中所述至少一侦测器包括多个侦测器，所述多个侦测器具有平行关系，且所述多个侦测器定义多个通道，所述粒子经过所述通道而由所述入射孔进入所述出射孔。