发明名称 图案形成方法
摘要 [课题]提供一种以配线GDR形成微细图案时,能够获得高尺寸精度的图案形成方法。[解决手段]具有以下之工程:在基板上之薄膜形成微细之线及间隙的工程;藉由切割微细之线及间隙的线,形成用于形成配线之沟槽图案之反转图案之第1图案的工程;使前述第1图案反转并形成成为沟槽图案之第2图案的工程。
申请公布号 TW201426816 申请公布日期 2014.07.01
申请号 TW102133651 申请日期 2013.09.17
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 小山贤一;八重樫英民
分类号 H01L21/027(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本