发明名称 | 图案形成方法 | ||
摘要 | [课题]提供一种以配线GDR形成微细图案时,能够获得高尺寸精度的图案形成方法。[解决手段]具有以下之工程:在基板上之薄膜形成微细之线及间隙的工程;藉由切割微细之线及间隙的线,形成用于形成配线之沟槽图案之反转图案之第1图案的工程;使前述第1图案反转并形成成为沟槽图案之第2图案的工程。 | ||
申请公布号 | TW201426816 | 申请公布日期 | 2014.07.01 |
申请号 | TW102133651 | 申请日期 | 2013.09.17 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 小山贤一;八重樫英民 |
分类号 | H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | TOKYO ELECTRON LIMITED 日本 |