转印薄膜、成形品的制造方法及成形品

摘要

本发明提供一种转印薄膜，其在成形的同时进行转印，且可减少转印时所产生之硬涂层的龟裂。成形同时装饰转印薄膜(100)，是于基底薄膜(1)的一侧的表面上，依次形成脱模层(2)、放射线硬化性树脂层(3)、装饰印刷层(4)及黏结层(5)而成之转印薄膜，放射线硬化性树脂层(3)是将放射线硬化性且热硬化性的树脂涂布膜加热硬化而成之层，并且于日本JIS-K5600法的测定条件下实施铅笔硬度试验时的硬度为B以下。放射线硬化性树脂层(3)的硬度较低、较为柔软，因此转印时不会产生龟裂。另外，在成形的同时进行转印之后，照射放射线使放射线硬化性树脂层(3)硬化，可作成硬涂层。