发明名称 |
电子机器用保护玻璃的玻璃基板之制造方法及其制造装置,暨氟铝酸硷金属盐之除去方法及其装置 |
摘要 |
本发明之电子机器用保护玻璃的玻璃基板之制造方法之特征在于包括:蚀刻步骤,藉由酸性之蚀刻溶液而对玻璃基板进行蚀刻;及除去步骤,以包含金属离子之酸性之电解质溶液除去附着于耐酸性物质上之化合物、亦即由于蚀刻步骤而产生且由于蚀刻步骤而变成酸性之氟铝酸硷金属盐。一种电子机器用保护玻璃的玻璃基板之制造装置,其特征在于包括:蚀刻溶液供给手段,藉由酸性之蚀刻溶液而对玻璃基板进行蚀刻;及除去手段,以包含金属离子之酸性之电解质溶液,除去附着于耐酸性物质上之化合物,亦即,由于与蚀刻溶液之接触而产生且由于蚀刻溶液而变成酸性之氟铝酸硷金属盐。 |
申请公布号 |
TWI443074 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
申请号 |
TW101115713 |
申请日期 |
2012.05.02 |
申请人 |
HOYA股份有限公司 日本 |
发明人 |
高野彻朗;后藤伴幸;桥本和明 |
分类号 |
C03C15/00;B08B3/10 |
主分类号 |
C03C15/00 |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼 |
主权项 |
一种电子机器用保护玻璃的玻璃基板之制造方法,其特征在于包括:蚀刻步骤,藉由酸性之蚀刻溶液而对玻璃基板进行蚀刻;及除去步骤,以包含金属离子之酸性之电解质溶液,除去附着于耐酸性物质上之化合物,亦即,由于上述蚀刻步骤而产生且由于上述蚀刻步骤而变成酸性之上述氟铝酸硷金属盐。 |
地址 |
日本 |