光学薄膜之制造方法，光学薄膜，偏光板及显示器

摘要

本发明目的在于提供：生产性优异，并抑制在硬涂层与硬涂层靠基材侧所邻接层之间发生干涉纹情形，且检视性优异的光学薄膜之制造方法。;本发明光学薄膜之制造方法，系包括有：准备光穿透性基材的步骤；准备第一组成物与第二组成物的步骤，该第一组成物系含有第一树脂及第一溶剂，且未含有低折射率成分、或低折射率成分相对于第一树脂质量在5.0质量%以下，黏度μ1为3mPas以上，而该第二组成物系含有低折射率成分、第二树脂与第二溶剂，黏度μ2为5mPas以上，且μ2与μ1的差系在30mPas以下；在光穿透性基材一面侧，从光穿透性基材侧至少使第一组成物与第二组成物相邻接并施行同时涂布，而形成涂膜的步骤；以及使上述涂膜乾燥，接着施行光照射或加热而使硬化的步骤；且在该乾燥前并未施行预烘烤。

主权项

一种光学薄膜之制造方法，其特征系包括有：(i)准备光穿透性基材的步骤；(ii)准备第一硬涂层用硬化性树脂组成物与第二硬涂层用硬化性树脂组成物的步骤，该第一硬涂层用硬化性树脂组成物系含有具反应性之第一树脂及第一溶剂，且未含低折射率微粒子与低折射率树脂、或即使含有低折射率树脂亦是相对于该第一树脂质量在5.0质量%以下，黏度μ1为3mPa．s以上；该第二硬涂层用硬化性树脂组成物系含有从平均粒径10~300nm的低折射率微粒子及低折射率树脂所构成群组中选择之1种以上的低折射率成分、以及具反应性的第二树脂与第二溶剂，黏度μ2为5mPa．s以上，且该μ2扣减掉该μ1的值系在30mPa．s以下；(iii)在该光穿透性基材之一面侧，从该光穿透性基材侧，至少使该第一硬涂层用硬化性树脂组成物与第二硬涂层用硬化性树脂组成物相邻接并施行同时涂布，而形成涂膜的步骤；以及(iv)使依上述(iii)步骤所获得之涂膜乾燥，接着施行光照射及/或加热而使之硬化的步骤；且在该(iii)步骤与该(iv)步骤间并未施行预烘烤。