无光罩曝光装置

摘要

设置板厚方向之一面相对于板厚方向之另一面成角度θ之倾斜面之第1与第2的2个楔型玻璃717、727、及使楔型玻璃717、727之至少1个移动的移动手段，将楔型玻璃717之面717u配置成垂直于第2投影透镜67之光轴，并组合楔型玻璃727之面727u，使其与面717u之距离成为预定值δ，配置于第2投影透镜67之入射侧或出射侧，当第2投影透镜67之光轴方向之成像位置自曝光基板8之表面偏移时，藉由使楔型玻璃717移动于角度θ方向并保持距离δ为一定，以将第2投影透镜67之成像面定位于曝光基板8之表面。

主权项

一种无光罩曝光装置，系具有输出曝光用照明光之曝光光源、2维空间调变器、第1投影透镜、微透镜阵列、第2投影透镜、保持曝光基板并移动于与该第2投影透镜之光轴正交之方向之载台、板厚方向之一面相对于板厚方向之另一面成角度θ之倾斜面之第1与第2的2个楔型玻璃、及使该楔型玻璃之至少1个移动的移动手段，将该第1楔型玻璃之该另一面配置成垂直于该第2投影透镜之光轴，并组合该第2楔型玻璃之该一面，使其与该第1楔型玻璃之该一面之距离成为预定值，配置于该第2投影透镜之入射侧或出射侧，其特征在于，具备：复数个基板表面之高度检测手段，系位于该第2投影透镜在该曝光扫描方向之前侧，排列于与该曝光扫描方向正交之方向；以及控制电路，以下述方式控制该移动手段，即根据该复数个高度检测手段检测出之复数个高度资讯，在该检测出之基板上之位置因该基板之曝光扫描到达该第2投影透镜之光轴之期间运算该第2投影透镜之焦点位置，在该基板上之位置到达该第2投影透镜之光轴时使该第2投影透镜之焦点与该位置之基板之表面一致；该控制电路储存该高度检测手段检测出之检测结果，且预先表示超过该第2投影透镜之焦点深度之可能性高之位置。