发明名称 |
微气泡式处理装置 |
摘要 |
本发明系揭露一种微气泡式处理装置,包含一处理槽,其相异两侧分别具有一溢流盒,此处理槽储有一液体,且至少一待处理件浸于液体中。处理槽中设有二活动式导流板与一曝气元件,其系皆浸于液体中。每一溢流盒与待处理件之间有一活动式导流板,待处理件位于二活动式导流板之间。曝气元件位于待处理件下方,并接受一动力,以于液体中产生均匀且直线向上行进之复数微气泡,以处理待处理件之表面后,微气泡带离表面上之杂质,并于液体中向上移动,且受活动式导流板之导引至溢流盒中,以达到降低成本、改善洗净效率,提升生产量之目的。 |
申请公布号 |
TWI443725 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
申请号 |
TW101123444 |
申请日期 |
2012.06.29 |
申请人 |
台湾上村股份有限公司 桃园县大园乡民族路7之1号 |
发明人 |
三木敏;王凯毅;彭治强 |
分类号 |
H01L21/30;H01L21/67;B08B3/04 |
主分类号 |
H01L21/30 |
代理机构 |
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代理人 |
林火泉 台北市大安区忠孝东路4段311号12楼之1 |
主权项 |
一种微气泡式处理装置,其系处理至少一待处理件,该微气泡处理装置包含:一处理槽,其相异两侧分别具有一溢流盒,该处理槽储有一液体,该至少一待处理件浸于该液体中;二活动式导流板,其系设于该处理槽中,且每一该溢流盒与该至少一待处理件之间有一该活动式导流板,该至少一待处理件位于该二活动式导流板之间,该二活动式导流板浸于该液体中;以及一曝气元件,设于该处理槽中,并浸于该液体,且位于该至少一待处理件下方,该曝气元件接受一动力,以于该液体中产生均匀且直线向上行进之复数微气泡,以处理该至少一待处理件之表面后,该些微气泡带离该表面上之杂质,并于该液体中向上移动,且受该二活动式导流板之导引至该二溢流盒中。 |
地址 |
桃园县大园乡民族路7之1号 |