发明名称 微气泡式处理装置
摘要 本发明系揭露一种微气泡式处理装置,包含一处理槽,其相异两侧分别具有一溢流盒,此处理槽储有一液体,且至少一待处理件浸于液体中。处理槽中设有二活动式导流板与一曝气元件,其系皆浸于液体中。每一溢流盒与待处理件之间有一活动式导流板,待处理件位于二活动式导流板之间。曝气元件位于待处理件下方,并接受一动力,以于液体中产生均匀且直线向上行进之复数微气泡,以处理待处理件之表面后,微气泡带离表面上之杂质,并于液体中向上移动,且受活动式导流板之导引至溢流盒中,以达到降低成本、改善洗净效率,提升生产量之目的。
申请公布号 TWI443725 申请公布日期 2014.07.01
申请号 TW101123444 申请日期 2012.06.29
申请人 台湾上村股份有限公司 桃园县大园乡民族路7之1号 发明人 三木敏;王凯毅;彭治强
分类号 H01L21/30;H01L21/67;B08B3/04 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人 林火泉 台北市大安区忠孝东路4段311号12楼之1
主权项 一种微气泡式处理装置,其系处理至少一待处理件,该微气泡处理装置包含:一处理槽,其相异两侧分别具有一溢流盒,该处理槽储有一液体,该至少一待处理件浸于该液体中;二活动式导流板,其系设于该处理槽中,且每一该溢流盒与该至少一待处理件之间有一该活动式导流板,该至少一待处理件位于该二活动式导流板之间,该二活动式导流板浸于该液体中;以及一曝气元件,设于该处理槽中,并浸于该液体,且位于该至少一待处理件下方,该曝气元件接受一动力,以于该液体中产生均匀且直线向上行进之复数微气泡,以处理该至少一待处理件之表面后,该些微气泡带离该表面上之杂质,并于该液体中向上移动,且受该二活动式导流板之导引至该二溢流盒中。
地址 桃园县大园乡民族路7之1号