| 发明名称 |
反射型光罩胚料、反射型光罩、及使用它之半导体装置之制法 |
| 摘要 |
本发明系反射型光罩胚料，在基板上积层有：多层反射膜；第1光吸收层，含有钽及矽；及第2光吸收层，含有氮及氧中至少一种、钽、以及矽。 |
| 申请公布号 |
TWI443447 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
| 申请号 |
TW094143306 |
申请日期 |
2005.12.08 |
| 申请人 |
凸版印刷股份有限公司 日本 |
发明人 |
金山浩一郎;松尾正;西山泰史 |
| 分类号 |
G03F1/24;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F1/24 |
| 代理机构 |
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代理人 |
何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼 |
| 主权项 |
一种反射型光罩胚料，其特征为具备：基板；设在该基板上的多层反射膜；及光吸收性积层，包含：第1光吸收层，设在该多层反射膜上，且含有钽及矽；及第2光吸收层，积层在该第1光吸收层上，且含有氮及氧中至少一种、钽及矽，前述第2光吸收层含有钽、矽、及氮，且含有2至7at%的钽、40至60at%的矽、及6至15at%的氮。 |
| 地址 |
日本 |
