发明名称 |
工件处理系统以及侦测出气率的方法 |
摘要 |
一种工件处理系统,包括:平台,经配置以支撑着工件;源,经配置以靠近工件的前表面来提供电磁波;以及侦测器。此侦测器经配置以接收电磁波的至少一部分,且提供侦测讯号,此侦测讯号是代表从工件中释放的出气副产物的出气率。也提供一种侦测出气率的方法。此方法包括:靠近工件的前表面来提供电磁波;接收电磁波的至少一部分;以及提供侦测讯号,此侦测讯号是代表从工件中释放的出气副产物的出气率。 |
申请公布号 |
TWI443309 |
申请公布日期 |
2014.07.01 |
申请号 |
TW097135692 |
申请日期 |
2008.09.17 |
申请人 |
瓦里安半导体设备公司 美国 |
发明人 |
沃特 史帝文R. WALTHER, STEVEN R. US;波辛 哈勒德M. PERSING, HAROLD M. US |
分类号 |
G01F1/66;H01L21/02 |
主分类号 |
G01F1/66 |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
一种工件处理系统,包括:一平台,经配置以支撑着工件;一源,经配置以靠近所述工件的前表面来提供电磁波,其中所述源为光源或微波源;一侦测器,经配置以接收所述电磁波的至少一部分,且提供侦测讯号,所述侦测讯号是代表从所述工件中释放的出气副产物的出气率;以及一控制器,经配置以接收所述侦测讯号且将所接收的所述电磁波的强度与正常强度相比较,其中相对于所述正常强度的减少就代表所述出气率。 |
地址 |
美国 |