发明名称 |
一种硼元素均匀分布的多晶硅铸锭工艺 |
摘要 |
本发明涉及一种硼元素均匀分布的多晶硅铸锭工艺,属于多晶硅生产领域。一种硼元素均匀分布的多晶硅铸锭工艺,包括多晶硅生长步骤,其特征在于:所述多晶硅生长步骤包括七个多晶硅生长阶段,每个生长阶段的时间为3~4h,各个阶段的生长速率依次为1.3cm/h、1.2cm/h、1.1cm/h、1.0cm/h、0.9cm/h、0.8cm/h、0.7cm/h。该工艺减弱了晶体生长过程中硼元素的定向分凝,可以使硅锭的出成率提高7~12%;均匀的硼元素分布、低的位错密度使得电池片的转换效率提高0.1%~0.2%。 |
申请公布号 |
CN103882518A |
申请公布日期 |
2014.06.25 |
申请号 |
CN201410123795.5 |
申请日期 |
2014.03.28 |
申请人 |
大连理工大学 |
发明人 |
谭毅;李鹏廷;任世强;石爽;姜大川 |
分类号 |
C30B29/06(2006.01)I;C30B28/06(2006.01)I;C30B31/04(2006.01)I |
主分类号 |
C30B29/06(2006.01)I |
代理机构 |
大连东方专利代理有限责任公司 21212 |
代理人 |
赵淑梅;李馨 |
主权项 |
一种硼元素均匀分布的多晶硅铸锭工艺,包括多晶硅生长步骤,其特征在于:所述多晶硅生长步骤包括七个多晶硅生长阶段,每个生长阶段的时间为3~4h,各个阶段的生长速率依次为1.3cm/h、1.2cm/h、1.1cm/h、1.0cm/h、0.9cm/h、0.8cm/h、0.7cm/h。 |
地址 |
116024 辽宁省大连市高新园区凌工路2号 |